一篇關于超純水設備工藝流程的全面講解 可以好好看看

　　隨著半導體設計在生產過程中向精密化、小型化、小型化發展，對純水質量的要求也越來越高，超純水是一種除水離子外，還含有硅石、微粒、細菌、有機物質和微生物一并給予有限度的去除達到完全純凈程度的水質，常用于電子行業。所以超純水設備已經成為了半導體行業用水的重要保障。

　　下面真的要進入正題了

　　超純水設備顧名思義，其是采用EDI技術和反滲透技術相結合，可有效去除水中懸浮物、膠體、顆粒等雜質，達到凈化水質的良好目的。此設備無需添加任何化學藥劑，無需擔心水質的二次污染。

　　超純水設備工藝流程

　　自來水進入原水箱，通過原水泵增壓，經砂濾器、炭濾器、阻垢劑加藥、保安過濾器，到達反滲透單元，經兩級反滲透過濾進入EDI單元，拋光混床單元，EDI出水進入純水水箱，此時水質的電阻率是15兆歐，經過拋光混床后，產水電阻率達到18兆歐，但是不進入水箱，直接進入用水點。因為水箱中若出現產水滯留，會影響產水水質。純水供水設計為循環方式，經純水供水泵增壓，通過紫外線消毒器、拋光混床接入純水供水管，到達使用點。

　　超純水設備一般包括石英砂濾器、活性碳濾器、阻垢劑、精密過濾器、RO反滲透主機系統、EDI電除鹽系統、離子交換混床系統等構成。通過多年來的實踐，萊德采用反滲透技術和EDI裝置相結合的工藝制備超純水，萊德超純水設備具有很好的實用價值，可以實現自動控制，從某種程度上而言，可以有效的達到我國電子級水質標準，具有自動化程度高，水質穩定等優勢。

　　萊特萊德超純水設備在設計上采用兩級RO+EDI+精混床除鹽水的處理工藝，具有成熟、可靠、自動化程度高等優勢，保證了處理后的出水電阻率達到18 MΩ.CM以上。設備內部還安裝有反滲透預脫鹽技術，從根本上保證出水水質。